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正文:
放電現(xiàn)象和鋼中鋁的存在形態(tài)
在電子
顯微鏡照片上觀察發(fā)射光譜分析法的基本放電、現(xiàn)象時(shí)
,每次放電時(shí)鋼試樣的表面受到局部加熱產(chǎn)生一個(gè)放電點(diǎn) 放電點(diǎn)
是幾個(gè)小弧坑,直徑大小為5~20微米(深室也是5~20微米),一般
來說,可以認(rèn)為每次放電能分析試樣表面尺寸的直徑為5~20微米
的區(qū)域。
另外,從鋼水急冷的試樣中,鋁的三維存在狀態(tài),在整個(gè)試樣
中酸溶鋁都是以均勻的濃度存在的,而酸不溶鋁是以直徑為5--50
把這兩個(gè)現(xiàn)象綜合在一起加以分析,當(dāng)放電位置改變時(shí),如果
有馥不溶鋁粒子存在的話,放電點(diǎn)上的含鋁量及其變化是非;鸬
.相應(yīng)鋁的光譜強(qiáng)度也很強(qiáng),相反,當(dāng)沒有酸不溶鋁顆粒存在.而
只有酸溶鋁存在時(shí),所有放電點(diǎn)上的含鋁量幾乎都是相同的,都是
一定的,同時(shí)鋁的光譜線強(qiáng)度大體也是相同的。
扶大量的含有不同酸不溶鋁試樣的測(cè)定結(jié)果來看,呈現(xiàn)雙峰值
的脈沖強(qiáng)度分布曲線上,強(qiáng)度值接近定值的正態(tài)分布的峰是由酸溶
鋁引起的;強(qiáng)度很強(qiáng)的低峰是由酸不溶鋁引起的。每個(gè)峰值的脈沖
數(shù)總和分別與各自的含鋁量成比例(在放電開始階段,由于試樣表
面比較粗糙、研磨試樣時(shí)的表面氧化和拋光時(shí)粘附的氧化鋁顆粒等
影響,造成強(qiáng)度值比較高。這些因素引起的放電應(yīng)當(dāng)看成是預(yù)放電
而舍率)、
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北京顯微鏡百科
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