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標(biāo)題:電子學(xué)、光學(xué)和氣動的測量-厚度測量光學(xué)儀器

信息分類:站內(nèi)新聞   作者:yiyi發(fā)布   時(shí)間:2014-8-17 6:49:48 將本頁加入收藏

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正文:

電子學(xué)、光學(xué)和氣動的測量-厚度測量光學(xué)儀器


其它還有電子學(xué)、光學(xué)和氣動的測量方法.有些電子儀器
把探針同差動變壓器的活動鐵芯耦合,則能很容易地測量
極小的位移,由于銜鐵及探針的尺寸小,所以負(fù)載可以很輕.
其它一些電子學(xué)測量方法則利用待測樣片改變了板間的間隙,
并把電容變化與厚度聯(lián)系起來.光學(xué)量具的觸桿與樣品表面接觸的
情況,同度盤指示儀的情況非常相似,只是它用光杠桿來放大讀
數(shù).氣動量具在圖6.4中作了概要說明,它檢測噴氣口和平面之
間的可變間隙所造成的托壓.因此如果樣品插入噴氣口和基準(zhǔn)面
之間,就能測出噴氣口和切片表面之間的距離.假紅
樣品是向上彎曲的,那么,就會得出錯(cuò)誤讀數(shù).所以一般采用二個(gè)
相對的噴氣口來檢測切片,

但是在薄切片放入二噴口之前,應(yīng)該關(guān)掉氣動量具的氣流,以免破
損切片.在使用高靈敏度電子式或氣動量具時(shí),通常總量程是很小的
(例如分度為0.005密耳的量具其量程為0.3密耳),這樣,為了調(diào)整零位也貓
要基準(zhǔn)塊.由于這些儀器的靈敏度很高,在早些時(shí)候,有時(shí)也被用
于測量硅外延層的厚度.它能跟蹤個(gè)別的切片,在外延生長之
前和生長以后惻量其厚度,以致切片背面的少量生長.現(xiàn)在這個(gè)
方法已被紅外千涉儀等更先進(jìn)更實(shí)用的方法所取代.










出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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