標(biāo)題：光學(xué)測量工具顯微鏡的設(shè)計原理-什么是測量誤差
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2014-8-11 10:20:39
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正文:
測量頭必須根據(jù)形狀的凸凹而動作，但為了縮短測量時間，
測量頭或被測表面的送進速度增大后，測量頭的頻率就增高，由
于放大機構(gòu)的慣性等原因，追隨不上被測表面的凸凹變化是可以
想像到的。因此，把追隨性能一直提高到高頻率運動的機構(gòu)設(shè)計
很有必要。其次，在測量中產(chǎn)生測量頭的動態(tài)測定力過大，
就會使各部變形而產(chǎn)生不能允許的測量誤差。另外，測定力過小，
由于外部震動影響等，測量頭的接觸會不穩(wěn)定，測量性能將下降。
因此，必須經(jīng)常保持最適宜的動態(tài)測定力，以便確立檢測部分的
機構(gòu)設(shè)計方法。
此外，考慮到非接觸式檢測部分，如何有效地用以進行微小
量的檢測、擴大、放大的光學(xué)系統(tǒng)，電路，液壓流體回路等技術(shù)，
則是個重要問題，與接觸式檢測部分比較起來，它的機構(gòu)問題較
少
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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