標題：涂覆的精確金屬表面涂膠基于電鍍原理-金相顯微鏡
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2016-8-31 1:10:13
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正文:
特別的挑戰(zhàn)是在3D結(jié)構(gòu)，如溝槽或通孔，上涂覆光刻膠。如果
是在金屬表面涂膠，基于電鍍原理，采用電泳法常�？稍趪乐刈冃�
的表面涂覆光刻膠。另一種可在嚴重變形表面沉積光刻膠的是噴涂
技術(shù)，可用于金屬甚至非金屬表面。光刻膠或聚合物稀釋后被改性
，通過特殊噴嘴噴射到圓片上，即使接近垂直的側(cè)壁上也可以進行
涂覆。
噴涂的另一個好處是可以降低光刻膠材料消耗。在旋涂過程中
，大部分光刻膠被旋出圓片邊緣，而噴涂只在圓片表面涂覆光刻膠
。對于較厚的光刻膠，必須采用多步噴涂。由于沒有離心力的均化
作用，噴涂光刻膠的薄膜質(zhì)量(均勻性、平整度)不如旋涂膠。但對
于大多數(shù)封裝應(yīng)用，光刻膠只是被用作刻蝕或電鍍掩膜。聚合物作
為電絕緣層，膠層只需達到一定厚度即可。
封裝用光刻膠和光敏聚合物，對寬帶紫外(波長為365～436nm
的I，h和g線)掩膜對準機與1倍步進機(相對于前道工藝用遞減步進
機)的波長光譜敏感，掩膜對準機和步進機都配備了水銀短弧燈。
目前封裝中可用這兩種方法實現(xiàn)的最小特征尺寸是光學分辨率為4
μm，涂覆的精確性正變得更加嚴格，只是稍微好于±1 μm，掩膜
對準機與步進光刻機都能夠達到該涂覆精度。
掩膜對準機是一種接近式曝光工具，掩膜板與圓片間的曝光間
隙大約為50μm，整個圓片曝光采用比圓片稍大一點的掩膜板一次
完成。這與步進光刻機不同，步進光刻機使用最大曝光區(qū)域尺寸約
為20mm×40mm的初縮掩模板。因此，為了曝光整個圓片，必須進行
多次曝光。與掩膜對準機相比，步進光刻機存在產(chǎn)量上的劣勢，特
別是對于大尺寸圓片加工。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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