標題：光學(xué)顯微鏡下明場圖像的構(gòu)成-電子電鏡技術(shù)簡介
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2016-6-22 17:31:48
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正文:
光學(xué)顯微鏡下明場圖像的構(gòu)成-電子電鏡技術(shù)簡介
盡管圖像和衍射襯度之間有著明顯的區(qū)別，但通常還是稱之為明場
像和暗場像，在透射電鏡的教科書和下文中都將延續(xù)這一說法。作為最
后總結(jié)，關(guān)鍵問題是需要認識到同一個概念在光學(xué)顯微鏡中有著不同的
意義。光學(xué)顯微鏡下明場像意味著圖像是由非衍射線和數(shù)值孔徑范圍內(nèi)
所有衍射線的極大值產(chǎn)生的，暗場像意味著圖像是由數(shù)值孔徑允許通過
的所有衍射線的極大值產(chǎn)生的
現(xiàn)在重新考慮根據(jù)上述步驟在透射電鏡中生成一個暗場像的操作方
法。將物鏡光闌置于電子束產(chǎn)生的衍射斑點位置，意味著暗場像成像電
子將經(jīng)過一條相對遠離光軸的路徑。“離軸”的電子將受磁透鏡畸變影
響。為了消除相關(guān)的不利影響，通常將入射電子束稍加傾斜，以使其與
光軸成一定角度撞擊試樣／薄片表面，這個角度等于與所考慮衍射斑相
關(guān)的衍射角。于是，該衍射電子將沿光軸傳播，即衍射斑落在衍射圖樣
中心，物鏡光闌可以放置在這個中心(以明場成像模式)以選中這個衍射
斑。這個操作稱為中央暗場(Centred Dark Field，簡稱CDF)成像，這
也是在透射電鏡中得到暗場像的首選方式。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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