標(biāo)題：金相機(jī)械拋光,粗拋粒度可用5-7μm精拋用1-0.5μm
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2015-10-1 22:43:30
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正文:
金相機(jī)械拋光,粗拋粒度可用5-7μm精拋用1-05μm
試樣粗磨與細(xì)磨
經(jīng)砂輪打平后的試樣，可用下面五種方法之一來進(jìn)行研磨。
（1）利用不同粒度的水砂紙，在平板玻璃上用手工磨制。
（2）利用不同粒度的水砂紙，分別放在預(yù)磨機(jī)轉(zhuǎn)盤上磨制。
（3）直接使用不同粒度的磨粉，在拋光機(jī)上研磨。
（4）利用蠟盤粗磨后，再用粗粒度氧化鋁粉，懸浮澆在呢絨
盤上研磨，這個(gè)方法基本上可能代替全部金相砂紙。
（5）如巖相制片一樣，用中等粒度的磨料在鑄鐵盤上研磨。
拋光
金相試樣的拋光，可用如下方法來實(shí)現(xiàn)。
機(jī)械拋光
機(jī)械拋光，可以是一級拋光，也可以分兩級拋光，在兩級拋光
的情況下，粗拋粒度可用5-7μm，精拋用1-05μm。
拋光操作，目前仍多用為手持單試樣的拋光機(jī)上進(jìn)行。
為了減少手工勞動(dòng)，提高拋光效率，現(xiàn)正在向自動(dòng)化方向發(fā)展
涂層材料的選擇，決定于被涂材料的光學(xué)性質(zhì)，應(yīng)以滿足其一
個(gè)相的反射率降低為零時(shí)的相位和振幅為條件，一般說來，高反
射被涂層材料要求高反射率的涂層，對低反射和強(qiáng)吸收性物質(zhì)來
說，可以應(yīng)用低反射率的涂層材料。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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