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標(biāo)題:光學(xué)測(cè)量光切顯微鏡測(cè)量來(lái)表面粗糙度的方法

信息分類(lèi):站內(nèi)新聞   作者:yiyi發(fā)布   時(shí)間:2015-7-17 15:02:48 將本頁(yè)加入收藏

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正文:

光學(xué)測(cè)量光切顯微鏡測(cè)量來(lái)表面粗糙度的方法

  在光學(xué)測(cè)量法中著重利用干涉條紋的方法和光切法,利用干涉條
紋的方法以比光束干涉和往返干涉方式的干涉條紋的間隔作標(biāo)準(zhǔn),
根據(jù)干涉條紋就可以測(cè)量表面的凹凸不平度,用觸針?lè)ㄆ溆|針尖的
半徑為2-10μm,因此,對(duì)特別小的不平度也有測(cè)定限度,對(duì)測(cè)定
如此小的凹凸不平度用干涉條紋法比較適合。

  空間電容法,是將被測(cè)表面上的凹凸不平及其上面所放的平面之
間產(chǎn)生的空間容積作為靜電電容進(jìn)行測(cè)量來(lái)表面粗糙度的方法,感
應(yīng)電介質(zhì)與被測(cè)表面手凹凸不平度間隙平均值,即所謂用中心線深
度表示表面粗糙度的方法,當(dāng)被測(cè)物體是金屬一類(lèi)良好導(dǎo)體時(shí),采
用電容法,可以直接進(jìn)行測(cè)量,如是絕緣體時(shí),則要蒸鍍一層金屬
,才進(jìn)行測(cè)量。











出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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