標題：金相分析-鍍層對于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體
信息分類:站內(nèi)新聞
作者:yiyi發(fā)布
時間:2015-5-3 15:49:06
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正文:
鍍層對于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體
光學復合材料在工程上的最重要的用途無疑是用作太陽能集
熱管的選擇吸收鍍層.太陽能的大部分能量是在0.1-2μm光譜
范圍內(nèi)。選擇吸收鍍層對于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體，
而對于波長大于3μm是理想的反射體。黑鉻和黑鎳接近于滿足這
一要求。但黑鎳的抗蝕性差，而黑鉻的抗蝕性良好，因而后者廣泛
用作選擇吸收鍍層。
盡管電解染黑的鋁曾經(jīng)研究過，擬用作太陽能選擇吸收鍍層，
但由于其具有高發(fā)射率而未能獲得實際應(yīng)用。電解染色鍍層已經(jīng)
廣泛用于彩色裝飾。
黑鎳和黑鉻已經(jīng)用在光學儀器零件上和某些印刷機械部件上
鋁的光學復合鍍層是用另一種稱為鋁電解染色的工藝制備。
這種工藝是在硫酸中陽極氧化，然后在磷酸中陽極氧化，最后在硫
酸鎳或硫酸亞錫或任何其他適當金屬鹽溶液中，以陽極氧化的鋁
作為電極之一進行直流電解。根據(jù)電壓、磷酸陽極氧化的持續(xù)時間
和直流電解時間，鋁可染上色澤。文獻中報道的各種工藝基本上都
是運用上述工序，其差別在于所使用的電解液濃度和操作條件。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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