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正文:
為了得到鍍層工藝——結(jié)構(gòu)——性能的關(guān)系,知道鍍
層整體的相能成僅是其第一步,更重要的是知道其顯微
結(jié)構(gòu),這就需要利用各種微區(qū)結(jié)構(gòu)分析方法。
低能電子衍射是分析表面晶體結(jié)構(gòu)的重要方法。所用
的一次電子束能量為50-500eV。當(dāng)一次電子束能量在
50eV以下時(shí),衍射電子大部分來(lái)自最表面原子層。
低能電子衍射可用來(lái)研究氣相沉積的成核和生長(zhǎng),氧化
膜的生成、表面擴(kuò)散、氣體吸附和表面化學(xué)反應(yīng)。這種
方法也有其局限性,首先是限于單晶基體,其次,其衍
射花樣的解釋十分復(fù)雜。
反射式高能電子衍射在一定程度上克服了上述缺點(diǎn)。
但由于高能電子(-100cV)的穿透深度較大,得出的并
不是真正的表面信息。然而,在許多材料科學(xué)研究中,
這種方法仍是十分有用的。例如,研究外延生長(zhǎng),表面
微粒,表面膜結(jié)構(gòu)等。
出自http://www.bjsgyq.com/
北京顯微鏡百科
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