標(biāo)題：晶粒的形狀和尺寸氣孔的形狀測量金相顯微鏡
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作者:yiyi發(fā)布
時(shí)間:2014-11-20 21:30:04
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正文:
滲硅層表面腐蝕前具有粒伏結(jié)構(gòu)。晶粒的形狀和尺寸和滲硅規(guī)范
有關(guān)。
在1100-1200 ℃時(shí)形成等軸多角形粗晶硅化物組織。在溫度較低
時(shí)，晶粒細(xì)小，其中許多晶粒具有三邊形或四邊形。晶粒之間有相互
聯(lián)接的空隙。表面有浮雕式搜蓋層。在高溫下，硅化物品體成長投有
方向性，表而的浮雕消失。空隙的數(shù)量和長度大大減小，空隙具有圓
形封閉式氣孔的形狀。
由于方法上的困準(zhǔn)，沒有研究過滲層橫截面的組織特征。
滲硅層晶粒尺寸和工藝條件的關(guān)系。在開始階段，無淪是用爐子
加熱還是用電加熱，滲硅溫度愈高，晶粒尺寸增長愈快，而且增長的
速度不是始終固定的。在1000℃時(shí)，晶粒的增長隨時(shí)間變慢，甚至出
現(xiàn)了晶粒平均尺寸下降的情況，看來，這是由于在表面層形成了新的
細(xì)小品粒的緣故。在
900 ℃時(shí)，45鋼和T8鍋在晶粒增長變慢之前出現(xiàn)了晶粒快速增長
時(shí)期。晶粒增長變慢，按時(shí)間說，正好和滲層本身增長受到阻礙相吻
合，由Fe+SiC4.反應(yīng)引起的晶�？焖僭鲩L二在滲層燒結(jié)期間，由于擴(kuò)
散變慢而發(fā)生變化。
如果氣孔是長形的并沿邊界分布（這樣的氣孔曾在900 ℃滲層中
看到過），氣孔對(duì)晶粒合并增長過程中邊界的位移，可能產(chǎn)生特別強(qiáng)
烈的阻礙作用。在氣孔數(shù)景和尺寸同時(shí)顯著減少的工藝階段，其形狀
接近于等軸的品粒，晶�？赡芴S式增長。 45 鋼滲層的晶粒和氣孔
尺才方面的數(shù)據(jù)有利于證明氣孔的阻礙作用。當(dāng)滲層晶粒的尺寸不超
過氣孔的尺寸時(shí)，滲層晶粒的增長變慢。
出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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