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標(biāo)題:顯微鏡物臺平面上所成的像-測量型光學(xué)儀器常識

信息分類:站內(nèi)新聞   作者:yiyi發(fā)布   時(shí)間:2014-5-5 15:42:32 將本頁加入收藏

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正文:

顯微鏡物臺平面上所成的像-測量型光學(xué)儀器常識


照明場和測量場的控制:照明光闌(視場光闌)在顯微鏡物臺平面上所成的像稱為照明場;
測量光闌在顯微鏡物臺平面上所成的像為測量場(光度場)。照明光闌和測量光闌的
面積、位置都是可以調(diào)節(jié)的,因此照明場和測量場都是可以控制的。照明場用于
提供樣品照明,


而測量場用于限定被測樣品區(qū),就是說,只有這個(gè)樣品區(qū)的光線能被光電倍
增管所檢測。雙波法、雙區(qū)法和掃描法對照明場和測里場的大小有不同的要
求,詳見各種方法的測量步驟;但有一些共同的原則應(yīng)掌握,照明場太大時(shí)
,由于周圍光經(jīng)過反射或散射進(jìn)人測量區(qū),將引起較高的透光值;照明場太
小,則照明場形成的衍射條紋將會影響測呈值,

一般照明場為測量場的2倍左右。測量場的大小根據(jù)不同的測量方法選擇。
測量場的位置應(yīng)調(diào)在照明場的中央。光電倍增管光陰極的不同部位靈敏度不
同,所以在測量過程中應(yīng)保持照明場、測量場和樣品之間相對位置的一致。











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