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標(biāo)題:高溫顯微鏡的原理及應(yīng)用,測(cè)定試樣熔點(diǎn)儀器

信息分類:站內(nèi)新聞   作者:yiyi發(fā)布   時(shí)間:2013-11-25 23:46:15 將本頁(yè)加入收藏

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正文:

高溫顯微鏡的原理及應(yīng)用,測(cè)定試樣熔點(diǎn)儀器

   高溫金相顯微鏡使用的熱浸蝕,也是部分基于輸入的熱能,使
原子由表面溢出。但熱浸蝕時(shí)的主要驅(qū)動(dòng)力,是以表面張力
最小的各個(gè)晶粒形成輕微拱狀平衡表面。

    用霧化的干涉層看清組織,雖然也屬于光學(xué)浸蝕方法,但
因其無(wú)需改動(dòng)金相顯微鏡光程,而只需處理拋光好的試樣表面,與
真正的光學(xué)浸蝕方法有別,

    試樣表面在真空中霧化,形成有干涉能力的薄層。用具
有高折射指數(shù)的物質(zhì),如ZnSe, TiO2,等作為薄層材料。這種
干涉層的作用在于,經(jīng)過干涉而減弱的波長(zhǎng),在目的物一霧化
層界面上經(jīng)受多倍反射,從而提高組織之間的反差。
最近有所謂的氣體反應(yīng)器出售,
可用以進(jìn)行很精確的霧化并可用金相顯微鏡控制










出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科
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