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標(biāo)題：光學(xué)量測(cè)表面粗糙度的原理簡介-測(cè)量金相顯微鏡

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光學(xué)量測(cè)表面粗糙度的原理簡介-測(cè)量金相顯微鏡

不管那一種量測(cè)方法，其檢測(cè)原理大致相同，利用光照射到待測(cè)物表面，所得到資訊以感測(cè)器或電荷耦合器來

擷取光反射或散射后的情形，對(duì)表面粗糙度要求高的待測(cè)物來說，光學(xué)量測(cè)的確是目前檢測(cè)系統(tǒng)的趨勢(shì)。

為了解決此問題，本研究發(fā)展一套低價(jià)位與高精度之低溫多晶矽膜表面粗糙度光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)，

藉由檢測(cè)光源照射準(zhǔn)分子激光能量退火后之試片，以及根據(jù)所量測(cè)之光強(qiáng)，可以于準(zhǔn)分子激光退火矽膜制程后，

快速得到低溫多晶矽膜之表面粗糙度值。根據(jù)蒐集文獻(xiàn)，使用光散射方法量測(cè)物質(zhì)表面粗糙度值已經(jīng)有諸多

成功案例，主要的原因?yàn)楣馍⑸浞椒ň哂泻唵闻c良好可靠度。

發(fā)展出一套不同厚度之低溫多晶矽膜表面粗糙度光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)，本系統(tǒng)的開發(fā)成本低廉，可運(yùn)用于半導(dǎo)體薄膜材料，

制程線上即時(shí)解析表面型貌。

出自http://www.bjsgyq.com/北京顯微鏡百科

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