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標題:鋁表面粗糙度分析-金相顯微鏡來觀察基板拋光面顆粒

信息分類:站內(nèi)新聞   作者:yiyi發(fā)布   時間:2013-3-19 11:53:15 將本頁加入收藏

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正文:

鋁表面粗糙度分析-金相顯微鏡來觀察基板拋光面顆粒



氮化鋁表面粗糙度分析

利用金相顯微鏡來觀察基板拋光面的

表面粗糙度(Surface roughness),量測380 μm 厚的氮化鋁基板表面形貌,

可觀察到顆粒之間的高度差約為 40~80 nm,表面粗糙度(Surface roughness)約為 40 nm;

630 μm 厚的氮化鋁基板,顆粒之間的高度差約為 20~60 nm,表面粗糙度約為 20 nm。

氮化鋁基板未拋光之前的表面粗糙度約為 400 nm。

相較于未拋光前,拋光后表面已平整許多,有助于提升后續(xù)晶圓鍵合制程的成功率










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