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標題:光學(xué)測量投影儀的基本光學(xué)原理介紹

信息分類:站內(nèi)新聞   作者:yiyi發(fā)布   時間:2012-12-3 19:19:43 將本頁加入收藏

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光學(xué)測量投影儀的基本光學(xué)原理介紹

光學(xué)測量投影儀(Optical Projector),又稱光學(xué)投影檢查儀,投影比較儀或光學(xué)比
較儀(Optical Comparator),簡稱投影機。
光學(xué)測量投影儀利用光學(xué)原理,以投影的方法,將受測工年之外形輪廓經(jīng)過各
級透鏡的放大,再投影到半透明的投影幕上,利用已知標準的圖形,或具有刻
度功能的量具,正確詳細比較檢測,而獲得真實誤差情況,并讀出量測數(shù)值。
因此光學(xué)測量投影儀的光學(xué)投影系統(tǒng),必需具備下列基本構(gòu)件,才能達到應(yīng)有
的功能。
1.光源:通常以極高光強度,在高放大倍率下仍能產(chǎn)生清晰的投影。
2.透鏡組織:透鏡是將光源之射散光,集中產(chǎn)生平行光束,投射在物體面
上,產(chǎn)生均勻強度的照明。
3.投影系統(tǒng):負責(zé)將平行光束對物體之影像予以轉(zhuǎn)折放大的傳送。
4.觀察影幕:令光在此呈現(xiàn)投影影像,作為檢驗的依據(jù)










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